Ultra-Puhtne pooljuht-ränikristallplokk

Ultra-Puhtne pooljuht-ränikristallplokk

Meie ülipuhta -pooljuht-ränikristalli valuplokk on konstrueeritud kasutades täiustatud Czochralski kasvumetoodikat, mis on kombineeritud kõrg-vaakumdegaseerimise ja plasma täiustamisega. Kuna metallilised lisandid on vähendatud sub-ppb tasemeni ja hapniku kontroll on kohandatud allavoolu difusiooni optimeerimiseks, on sellel valuplokil erakordne struktuurne terviklikkus ja elektriline järjepidevus. See on loodud toetama tipptasemel-pooljuhtplatvorme ning tagab minimaalse takistuse triivi, usaldusväärse kandja eluea ja parema plaadi tootlikkuse. Seda materjali kasutatakse laialdaselt loogiliste IC-de, IGBT-de, toite-MOSFET-ide, mälukiipide, RF-moodulite ja räni{7}}põhise fotoonika arendamisel. Selle ühilduvus 200 mm/300 mm vahvlite tootmisliinidega ja arenev suure-läbimõõduga üliõhukeste vahvlite töötlemine võimaldab fabidel vähendada seadme maksumust-seadme kohta, suurendades samal ajal tootmisvõimsust ja pikaajalist{15}}töökindlust. Ideaalne kõrgsagedussuhtluse, tehisintellekti kiipide ja järgmise{18}}põlvkonna autoelektroonika jaoks.

Kuum tags: ultra-puhta pooljuht-ränikristalli valuplokk, Hiina ultra-puhta pooljuht-ränikristalli valuploki tootjad, tarnijad, tehas