Ränisubstraadid teadus- ja arendustegevuse ning akadeemiliste laborite jaoks

Ränisubstraadid teadus- ja arendustegevuse ning akadeemiliste laborite jaoks

Uurimis- ja arendustegevuse ning akadeemiliste laborite jaoks loodud ränisubstraadid loovad stabiilse ja kõrge puhtusastmega aluse pooljuhtide eksperimentaalseks arendamiseks, materjalide iseloomustamiseks, mikrotootmiseks ja seadmete prototüüpimiseks. Madala defektide tiheduse, kontrollitud takistuse ja suurepärase pinna ühtlusega võimaldavad need substraadid saada ühtlaseid tulemusi täppislitograafia, söövitamise, sadestamise ja epitakseerimise protsessides.

Saadaval mitmesuguste kristallide orientatsioonide, lisanditüüpide, poleerimistasemete ja vahvlimõõtmetega, toetavad need laia valikut uurimisrakendusi, sealhulgas MEMS-andurite projekteerimist, õhukese{0}filmi katseid, optoelektroonilisi struktuure, fotogalvaanilist hindamist ja pooljuhtide füüsikalisi põhiuuringuid. Kohandatud spetsifikatsioone saab kohandada vastavalt konkreetsetele labori- või ülikooliuuringute nõuetele.

Kuum tags: ränisubstraadid teadus- ja arendustegevuse ning akadeemiliste laborite jaoks, Hiina ränisubstraadid teadus- ja arendustegevuse ning akadeemiliste laborite tootjatele, tarnijatele, tehastele